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产品简介
主要型号：设备满足 NADCAP AC7101/7D, ASTM E606/E606M X3 有关疲劳试样的加工要求 用途简介：纵向磨抛，抛光过程无横向动作，砂带下衬橡胶厚度大于5mm，磨抛压力可调可监测，压力不超过2.7kg。砂带连续自动进给，进给量可调，实现每一砂带区域只磨抛一次。样品的旋转速度可调，样品磨抛圈数可调。样品上当前的磨抛砂粒实时清除。
产品描述
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磨抛光系统组件：
1）试件纵向磨抛，砂带自动进给与回收、砂带下衬橡胶滚轮，磨抛压力可调。有压力监测和压力调节
2）砂带放料系统采用胀拉力调节功能。
3）砂带收料系统、伺服扭力输出检测，补偿功能。
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试件定位夹紧系统：
1）双顶使用气动三爪装置中孔回转缸夹紧，快速拆卸更换。
2）试样使用中孔定位双顶快速装夹，带防滑。
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动力头纵向进给系统：
1）伺服控制，具有快进、工进、快退功能，进给速度可设置调整。
2）研磨级丝杆进退系统，运行平稳持久、维持调整更换方便。
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动力头回转系统：
1）采用台达伺服马达配备同步齿形皮带传动，传动平稳、节能。
2）动力头采用迷宫式防尘设计，避免抛光粉尘或砂屑进入主轴内部引起主轴轴承的损坏。
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机床电器控制系统：
1）机床设计，具有手动、半自动循环及自动循环等功能。
2）人机液晶屏触控操作与设置界面，权限管理。
3）下置散热电器柜，结构紧凑，维修方便。
4）进口品牌PLC及电器元器件，保证长效工作。
5）机床配置电路稳压滤波等装置。
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安全、粉尘防护与排泄系统：
1）操作台面独立照明系统。
2) 机床具有过载、断电保护措施，附故障报警装置。
3） 电器元件均设置热保护、磁保护，并耐-12℃的低温潮湿环境。
4） 自动启动采用双手启动按钮控制，急停按钮设置。
5） 床防护采用全封闭防护罩方式，工人操作部位的防护罩采用透明材料，便于操作观察，保证切屑不落地，油、气不飞溅，无泄露，不污染环境，易清理。
6） 试件抛光部位压缩跟踪排泄，防止磨料二次污染，下置吸尘屑斗主动排屑。
主要电气品牌
其余配备
沙带橡胶轮更换备件
多组砂带盘
碳化硅砂带/氧化铝砂带（多种目数配置）
建议配备三工位以防止不同砂粒互相污染，并减少更换砂带的频次，通常抛光三道可达到粗糙度 Ra 0.2-0.3μm
主要参数
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纵向磨抛，抛光过程无横向动作，砂带下衬橡胶厚度大于5mm，磨抛压力可调可监测，压力不超过2.7kg。
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砂带连续自动进给，进给量可调，实现每一砂带区域只磨抛一次。
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样品的旋转速度可调，样品磨抛圈数可调。
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样品上当前的磨抛砂粒实时清除。
设备技术参数
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基本参数
磨抛功率：400W
磨抛速度：无级可调
磨抛行程：＞0-250mm
工作直径范围：4-25.4mm
分度范围：0-360°
机床总功率：1kw
